真空離子鍍 是在真空室內采用真空弧光放電技能，在陰極資料外表發生弧光，使陰極資料蒸騰，構成原子和離子。在電場效果下，原子和離子束高速轟擊作為陽極的工件表麵。同時向真空室內通入反應氣體，即可在工件外表構成具有很好功能的鍍層。陰極資料（也稱靶材）通常采用鈦、鉻、鋯等金屬，常用反響氣體為氮氣和碳氫化合物氣體。取得的鍍層有TiN、CrN、TiC、ZrN等。真空離子鍍具有下列長處：

可取得高硬度的鍍層，鍍層摩擦係數小，耐磨性高；

鍍層化學穩定性好，抗高溫氧化，耐蝕性好；

鍍層漂亮。可取得如18K金的金黃色色澤及其它五顏六色膜；

鍍層與基材結合力高。其結合力要高於傳統的磁控濺射、真空蒸鍍等塗層，鍍層不易脫落；

出產過程對環境無汙染。鍍層構成速度快，節約用電、節約用水。

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